NTT、電子ビームリソグラフィーによる3次元ナノ加工技術を開発――世界最小の地球儀“ナノグローブ”を作製

日本電信電話(株)は2日、ナノメートル(nm)レベルで試料の3次元加工が行なえる電子ビーム(EB)リソグラフィーシステムを開発するとともに、同加工技術のデモとして、球体試料にEBで描画した世界最小という地球儀“ナノグローブ”を作製したと発表した。同社では、ナノテクノロジーの分野でさまざまな応用が可能な重要な基盤技術になると位置付けている。

世界最小の地球儀“ナノグローブ”。海岸線と河川のパターンが形成されており、陸地と海はコントラストの違いで区分けされている

同社が開発したのは、半導体集積回路(IC)などを作製するための2次元加工技術として研究/開発が進められ、数10ナノメートルから数ナノメートルまで微細化されているEBリソグラフィー装置に、試料を回転駆動するシステムを組み込んだもの。回転駆動システムは、180度回転する“R軸”と、最大45度回転できる“T軸”の2軸で駆動され、精度は0.1度以内。EBリソグラフィー装置に簡単に出し入れできるようになっている。これにより3次元試料の任意の点にEBを照射できるようにした。また、EBナノリソグラフィーで電子を1点に収束させるために必要な高さの情報(Z情報)を得るための高さ測定装置も開発した。これは共焦点レーザー顕微鏡を利用し、試料で反射したレーザー光の強さから高さを割り出す仕組みで、高さ精度を1〜2マイクロメートル(μm)に抑えたという。XY方向の位置決めは、試料の下に透過電子検出器を置き、EBに対する試料の影を計測することで試料の輪郭位置を検出、20〜30ナノメートルの精度で位置決めが可能になったとしている。

電子ビーム(EB)リソグラフィー装置内で動作する2軸回転駆動システム

同社は、開発した装置を利用して、直径60マイクロメートル程度の球状の樹脂の表面に、世界地図のパターンを形成したとしており、最小パターンの大きさは10ナノメートル程度で、実際の地球上では2kmに相当する。併せて、超微細ナノフィルターも作製したという。これは直径10マイクロメートルのポリメチルメタクリレート(PMMA)球を利用し、1回目のEB描画と現像で桝状の枠組みを削り出し、2回目のEB描画と現像で枠組みの側面に微細な穴の列を形成したもの。30ナノメートル程度までの微細な穴を持つナノフィルターが作製できたという。

作製したナノフィルター

今後、同社は、半導体などのさまざまな材料の3次元ナノ加工技術を確立し、高機能ナノ電子デバイスなどに応用する予定としている。

• ニュースリリース (http://www.ntt.co.jp/news/news04/0402/04...)
• NTT (http://www.ntt.co.jp/)
• 【関連記事】米BALL Semiconductor、球面集積回路(IC)の製造に成功
• 【関連記事】【INTERVIEW】「盛況だったBALL Semiconductorカンファレンス」−仲野英志筆頭副社長−
• 【関連記事】【INTERVIEW】球状半導体は世の中を一変させる可能性を秘めている―BALL Semiconductor社長、石川明氏

(編集部)

この記事が関連していると思われます

• NEC、姫路工大、SIIが、3次元立体構造を作るナノテク技術を開発 (2000-12-08 / ポイント: 0.5179)
• 富士通、ナノ粒子触媒を利用したカーボンナノチューブ配線形成技術を開発 (2006-06-06 / ポイント: 0.4124)
• 日立、走査プローブ顕微鏡を利用したナノパターン加工技術を開発 (2001-09-05 / ポイント: 0.4029)
• 第13回マイクロマシン展開幕――「より小さく、より精密に―新たなフロンティアへ向けて」 (2002-11-13 / ポイント: 0.3571)
• 松下電器、大面積の微細部をナノ精度で測定できる3次元測定機を開発 (2002-04-05 / ポイント: 0.3563)
• 東芝、単一電子現象を応用した暗号処理用超小型物理乱数生成回路を開発 (2002-12-05 / ポイント: 0.3310)
• “nano tech 2003 国際ナノテクノロジー総合展”開幕――NECと日立が燃料電池搭載モバイルをデモ展示!! (2003-02-26 / ポイント: 0.3243)
• NEC、高純度カーボンナノホーンの量産技術を確立――サンプル提供も開始 (2005-12-02 / ポイント: 0.3219)
• 直径1cmのパイプ中をワイヤレスで自在に動き回る検査マシン――第10回マイクロマシン展レポート (1999-10-27 / ポイント: 0.3203)
• 北川工業、SII、昭和電工、信州大学の産学連携ユニットが、カーボンナノファイバー複合材料で微小歯車を駆動 (2002-02-06 / ポイント: 0.3187)
• 米IBM、世界最小の固体発光素子を開発と発表――カーボン・ナノチューブで (2003-05-02 / ポイント: 0.3069)
• 【ちえものづくり展 Vol.1】ヒントは日本刀！ 独創的“プローブ”が支えるHDD製造 (2006-09-27 / ポイント: 0.3013)
• NTTが超臨界流体によるデバイス加工の超高密度パターン形成法を開発 (1999-05-20 / ポイント: 0.2983)
• セイコーエプソン、インクジェット技術を活用した超薄型多層基板の試作を発表――省資源、省エネルギー化された基板の製造に道 (2004-11-01 / ポイント: 0.2970)
• 【SEMICON Japan 2003 Vol.1】半導体製造技術が幕張に集結！“SEMICON Japan 2003”開幕！ (2003-12-03 / ポイント: 0.2954)
• 富士通、カーボンナノチューブを利用した半導体チップの放熱基板を開発 (2005-12-05 / ポイント: 0.2925)
• 富士通、0.5μm加工技術で微細FRAMを開発、実用化へ (1997-12-08 / ポイント: 0.2910)
• 【INTERVIEW】「盛況だったBALL Semiconductorカンファレンス」−仲野英志筆頭副社長− (1998-08-10 / ポイント: 0.2790)
• 独インフィニオンテクノロジーズ、大きさが18nmのカーボンナノチューブトランジスターを試作 (2004-11-24 / ポイント: 0.2760)
• ザイキューブ、独自の“積層型3次元LSI”の実用・量産化事業を開始――低消費電力/高性能化を低価格に実現可能 (2004-11-15 / ポイント: 0.2607)
• 日立と物質・材料研究機構、二ホウ化マグネシウム系超伝導物質による小型コイルの開発に成功と発表 (2002-03-22 / ポイント: 0.2564)
• 独インフィニオンテクノロジーズ、線幅40〜50nmのIC配線技術を公開 (2001-05-15 / ポイント: 0.2485)
• 最先端の半導体製造装置が一堂に−−“セミコン・ジャパン 99”が開催 (1999-12-03 / ポイント: 0.2443)
• 富士フイルム、従来の10倍以上の記録密度を持つ塗布型磁気記録媒体を開発 (2001-11-09 / ポイント: 0.2419)
• 米IBM、カーボンナノチューブを用いたトランジスター技術を開発 (2001-05-01 / ポイント: 0.2405)
• 東北大学とシャープ、3次元フラッシュメモリーの基礎技術を開発 (2001-12-05 / ポイント: 0.2395)
• 半導体製造装置・材料の国際展示会“SEMICON Japan 2002”開幕 (2002-12-04 / ポイント: 0.2380)
• SII、LSIの断面観察が可能な走査イオン顕微鏡『SMI2000MSシリーズ』を発売 (2001-11-29 / ポイント: 0.2361)
• 米インテル、10GHzプロセッサーの基礎となる世界最小・最速のCMOSトランジスター技術を開発 (2000-12-12 / ポイント: 0.2360)

関連記事の検索には汎用連想計算エンジン(GETA)を利用しています。 「汎用連想計算エンジン(GETA)」は、情報処理振興事業協会(IPA)が実施した「独創的情報技術育成事業」の研究成果です。